半导体商面临的最大问题往往都是产能,时间对于他们来说就是生命。
一台可拆卸的刻光机可以解决很多产能问题。
在金钱的刺激下,拜尔斯主动提议道:
“老板,我们目前要解决的便是订单问题,有了订单,生产线才能全力运作起来。
我们可以试着找巨头Ibm聊聊,他们曾公开表示谁第一个生产出更精细的光刻设备就会找谁合作。”
这件事邱明祥也是知道的,解释道:
“Ibm在89年率先宣布他们成功在8英寸晶圆上制造芯片,工艺制程将精细到365nm,他们的总裁呼吁光刻机厂商研发精度更高的光刻设备。
并且公开保证,谁第一个造出来,Ibm将优先购买他们的光刻机!”
王磊眼睛一亮,他正在为光刻机卖给谁,买主不就这么来了吗。
“这一次展会,一定要邀请Ibm的人来观摩观摩,要知道我们的光刻机精度可是提升到了70nm!”
远远超过了Ibm所要求的365nm。
王磊很期待看到一群老外惊讶错愕的眼神。
几人都不由的相识一笑。
“老板,只要拿下Ibm,我们的市场占有率可以提高到5%!”
见拜尔斯有点飘的样子,王磊还是忍不住敲打道:
“拜尔斯,虽然我们目前制造出了远超同行的光刻设备,但远远没有到可以大意的时候,我们要尽早将光源波长提高到157nm!”
光刻机技术的升级,可以简单的看作光源波长的升级。
通过用更高级的曝光光源,来支撑技术进步到下一代。
为了追求更高的分辨率,光源波长从最初的365nm,到248nm,再到如今pas 5500使用的193nm。
据王磊对光刻机发展进程的了解,想要从248nm进化到193nm并不是最难的一步。
用不了几年,尼康、佳能、以及美丽国的GcA都会相继走到这一步。
最困难的还是向157nm的技术升级。
所有的大厂商都被卡在这一步上。
谁先迈出这一步,便会奠定一超多强的格局,彻底成为光刻机行业的霸主。
拜尔斯也没有预料到王磊的野心会如此的大,刚完成了技术升级,又开始琢磨着下一代光刻机。
“你放心,不管研发中遇到多少困难,我都会全力支持你们的研发!”
说这话的时候,王磊却将思绪飘到了台积电。
那里有一位龙裔科学家,堪称半导体“鬼才”一般的存在。
正是他提出了一种较为大胆的理念——浸没式!
他创造性的提出用水作为曝光介质,光源波长还是用原来的193nm,但通过水的折射,使进入光阻的波长缩小到134nm。
以前的干式法中,曝光介质用的是空气。
它们的区别在于折射率,193 nm光源在空气中的折射率为1,在水中折射率为1.4。
这也就意味着相同光源条件下,浸没式光刻机的分辨率可以提高1.4倍。